Iónové pokovovanie využíva výboj plynu vo vákuu na ionizáciu plynu alebo odparovaného materiálu. Pri bombardovaní plynovými iónmi alebo iónmi odparujúceho sa materiálu sa odparený materiál alebo jeho reaktanty ukladajú na obrobok. To zahŕňa iónové pokovovanie magnetrónovým naprašovaním, reaktívne iónové pokovovanie, iónové pokovovanie dutou katódou (odparovanie dutej katódy) a pokovovanie viac{2}}oblúkovými iónmi (katódové oblúkové iónové pokovovanie). Iónové pokovovanie kombinuje technológiu žeravého výboja a plazmy s vákuovým naparovaním, čím výrazne zlepšuje výkon povlaku a rozširuje jeho použitie. Okrem zdieľania výhod vákuového naprašovania ponúka iónové pokovovanie silnú priľnavosť filmu, vynikajúce difrakčné vlastnosti a širokú škálu pokovovacích materiálov.
V dôsledku toho zaznamenala v posledných rokoch rýchly rozvoj na domácom i medzinárodnom poli. Základným princípom iónového pokovovania je ionizácia pár kovov alebo zliatin pomocou žeravého alebo oblúkového výboja z inertného plynu. Iónové pokovovanie zahŕňa zahrievanie, odparovanie a nanášanie poťahového materiálu (ako je TiN a TiC).
Keď atómy odpareného náterového materiálu prechádzajú žiarovou zónou, malá časť sa ionizuje a pod vplyvom elektrického poľa letí smerom k obrobku a naráža na povrch s energiami niekoľkých tisíc elektrónvoltov. Dokážu preniknúť do podkladu do hĺbky niekoľkých nanometrov, čím výrazne zlepšujú priľnavosť náteru. Zjednotené atómy odpareného materiálu sa priamo ukladajú na obrobok a vytvárajú film. Rozprašovanie iónov inertného plynu a iónov povlakového materiálu na povrch obrobku tiež odstraňuje nečistoty, čím sa zlepšuje priľnavosť.
Technológie používané strojmi na iónové vákuové nanášanie, zariadeniami na nanášanie odparovaním a strojmi na nanášanie magnetrónovým naprašovaním sú rôzne. Tieto princípy technológie povrchovej úpravy majú tiež svoje výhody. Rôzne metódy poťahovania je možné zvoliť podľa poťahovaného obrobku a vrstvy filmu, aby sa splnili požiadavky trhu.
