Vákuové naparovanie: Princípom je zahrievanie filmového materiálu pomocou odparky vo vákuu, aby sa odparil alebo sublimoval, a potom je prúd odparených častíc priamo vystreľovaný smerom k substrátu, kde sa ukladá a vytvára pevný film. Odparovanie sa tiež delí na odparovanie elektrónovým lúčom, odporové odparovanie, indukčné odparovanie atď.
Iónové pokovovanie: Iónové pokovovanie vo všeobecnosti označuje metódu poťahovania, ktorá vytvára veľké množstvo iónov počas procesu poťahovania. Počas procesu tvorby filmu je substrát neustále bombardovaný vysokoenergetickými časticami, výsledkom čoho je veľmi silná vrstva filmu s vynikajúcou pevnosťou a priľnavosťou. Keď sa na vytváranie vysoko presných filmov používa iónové pokovovanie, veľké iónové častice môžu byť odfiltrované, čo vedie k vysoko štruktúrovanému a hustému filmu.
Najbežnejšie technológie poťahovania vákuovým poťahovacím zariadením v každodennom živote sú tieto tri. Výber konkrétneho závisí od toho, ktorá vrstva filmu má byť potiahnutá a aký obrobok má byť potiahnutý.
