1. Čistenie vykurovania vákua
Obrobok sa zahrieva pod normálnym tlakom alebo vákuom, aby sa odparil prchavé nečistoty na jeho povrchu, aby sa dosiahol účel čistenia. Čistiaci účinok tejto metódy súvisí s okolitým tlakom obrobku, dĺžkou času držania vákua, teplotou vykurovania, typom znečisťujúcich látok a materiálom obrobku. Princípom je zahrievanie obrobku na podporu desorpčného zvýšenia molekúl vody a rôznych uhľovodíkových molekúl adsorbovaných na jeho povrchu. Stupeň zvýšenia desorpcie závisí od teploty. V ultra vysokom vákuu, aby sa získal atómovo čistý povrch, musí byť teplota zahrievania vyššia ako 450 stupňov a metóda čistenia zahrievania je obzvlášť účinná. Ale niekedy má táto metóda vedľajšie účinky. V dôsledku zahrievania môžu niektoré uhľovodíky polymerizovať na väčšie agregáty a súčasne sa rozkladať do uhlíkovej trosky.
2. Ultrafialové čistenie ožarovania
Na povrch na povrchu použite ultrafialové žiarenie. Napríklad vystavenie vzduchu počas 15 hodín môže produkovať čistý sklenený povrch. Ak je správne vopred vyčistený povrch umiestnený do ultrafialového zdroja, ktorý vytvára ozón, vytvorí čistý povrch (čistenie procesu), čo ukazuje, že prítomnosť ozónu zlepšuje rýchlosť čistenia. Mechanizmus čistenia je, že pri ultrafialovom ožarovaní sú molekuly nečistôt vzrušené a disociované a tvorba a prítomnosť ozónu produkuje vysoko aktívny atómový kyslík. Excitované molekuly znečisťujúcich látok a voľné radikály generované disociáciou znečisťujúcich látok reagujú s atómovým kyslíkom, aby sa vytvorili relatívne jednoduché a prchavé molekuly, ako sú H203, CO2, N2 atď. Rýchlosť reakcie sa zvyšuje so zvýšením teploty.
3. Čistenie výbojov
Táto metóda čistenia sa široko používa pri čistení a odplynení vysokých vákuových a ultra vysokých vákuových systémov, najmä vo vákuových poťahovacích zariadeniach. Použitím horúcich drôtov alebo elektród ako elektrónových zdrojov a nanášania záporného zaujatosti na relatívny povrch, ktorý sa má vyčistiť, je možné dosiahnuť desorpciu plynu a odstránenie niektorých uhľovodíkov bombardovaním iónov. Čistiaci účinok závisí od elektródového materiálu, geometrie a jeho vzťahu k povrchu, to znamená počet iónov na jednotku plochu povrchu a iónovej energie, a teda závisí od účinnej elektrickej energie. Ak je vákuová komora naplnená inertným plynom (typicky AR plyn) pri vhodnom čiastočnom tlaku, iónové bombardovanie generované nízkotlakovým výborom žiara medzi dvoma vhodnými elektródami sa môže použiť na čistenie vákuovej komory. V tejto metóde je inertný plyn ionizovaný a bombarduje vnútornú stenu vákuovej komory, ďalšie štrukturálne zložky vo vákuovej komore a substráte. Niektoré uhľovodíky sa dajú lepšie vyčistiť, ak sa do naplneného plynu pridá kyslík. Pretože kyslík môže oxidovať niektoré uhľovodíky za vzniku prchavých plynov, dá sa ľahko vylúčiť z vákuového systému. Hlavnými zložkami nečistôt na povrchu vysokej vákua z nehrdzavejúcej ocele a ultra vysokých vákuových nádob sú uhlíky a uhľovodíky. Za normálnych okolností sa uhlík nemôže prchať sám. Po chemickom čistení je potrebné zaviesť AR alebo AR + 02 pre čistenie výbojov na výboj. Pri čistení výbojov na výtoky sú dôležitejšími parametrami typu aplikovaného napätia (AC alebo DC), ktoré sa používa na čistenie povrchu farbiva a plynu, ktorý je chemicky viazaný na povrch, výtokové napätie, hustotu prúdu, typ plynu a tlak, čas bombardovania, tvar elektród, materiál a polohu častí, ktoré sa majú vyčistiť, atď.
Iv. Spláchnutie plynu
1. Amoniak preplachovanie
Ak je dusík adsorbovaný na povrchu materiálu, adsorpčná energia je veľmi malá, takže adsorpčná doba na povrchu je veľmi krátka, a aj keď je adsorbovaná na stene zariadenia, ľahko sa vyčerpáva. Použitie tejto charakteristiky amoniaku na prepláchnutie vákuového systému môže skrátiť čas čerpania systému. Ak je vákuový náterový stroj naplnený suchým dusíkom pred vložením do atmosféry, čas čerpania v nasledujúcom čerpiacom cykle sa môže skrátiť takmer polovicou, pretože adsorpčná energia dusíka je oveľa menšia ako adsorpčná energia molekuly vodnej pary, a je najprv voči vodnej stene. Pretože adsorpčné miesta sú isté a naplnené molekulami dusíka najskôr, existuje len málo adsorbovaných molekúl vody, ktoré skracujú čas čerpania. Ak je systém kontaminovaný postriekaním oleja z difúzneho čerpadla, kontaminovaný systém sa môže tiež vyčistiť prepláchnutím dusíka. Pri pečení a zahrievaní systému sa zvyčajne môže systém prepláchnuť dusíkom, aby sa eliminovala kontaminácia oleja.
2. Reaktívne spláchnutie plynu
Táto metóda je obzvlášť vhodná na vnútorné čistenie veľkých vákuových systémov z nehrdzavejúcej ocele (odstránenie kontaminácie uhľovodíkov) a je zvyčajne vhodná pre vákuové komory a vákuové komponenty niektorých veľkých ultra vysokých vákuových systémov. Aby sa dosiahol čistý povrch v atómovom stave, štandardnou metódou na odstránenie povrchovej kontaminácie je chemické čistenie, pečenie vákuovej pece, čistenie výbojov na žiarenie a vákuový systém s pečením atómovej energie. Vyššie uvedené metódy čistenia a odplyňovania sa často používajú pred a počas inštalácie vákuového systému. Po inštalácii vákuového systému (alebo po prevádzke systému) je ťažké ho odvrátiť, pretože rôzne komponenty sú už fixované. Akonáhle je systém (náhodne) kontaminovaný (hlavne molekulami s väčšími atómovými číslami, ako sú uhľovodíky), zvyčajne sa rozoberá, prepracuje a preinštaluje, zatiaľ čo odplyňovanie online sa môže vykonávať pomocou programu reaktívneho plynu, čím účinne odstraňuje uhľovodíkové kontaminanty v nerezovej oceľovej komore. Jeho čistiaci mechanizmus: zavedenie oxidačného plynu (02, NO-RRB- a redukčný plyn (NH3 NH3) do systému, aby sa chemicky reagoval a vyčistil povrch kovu, aby sa odstránil kontaminanty kontaminantov a získal atómový stav povrchu čistého kovu. Experimentálne sa určujú substráty, presné parametre pre rôzne kryštalické orientácie a tieto parametre sú rôzne.
